国产光刻机面临竞争压力,欧洲芯片实验室研发出新型EUV技术

2019-04-08

制造出国产芯片光刻机是14亿中国老百姓的共同心愿,有了国产光刻机,我们就能造出国产芯片,不用担心被ASML公司“卡脖子”。要实现光刻机国产化,就必须要投入很多资金、人力,现在国家也在重视支持国产光刻机发展。然而,世界发展,一日千里,我们在进步,别人也在进步。最近,欧洲芯片实验室IMEC研发出新型EUV光刻机技术,这项先进技术对于发展5nm和3nm的光刻机有重要作用。

ASML公司是全球唯一能够制造7nm制程的EUV光刻机,这台机器的市场售价超过1.2亿美金(约合人民币7亿),但是曝光后的光刻胶中的缺陷限制了目前7纳米节点的产量,就是说,现在的技术条件下,ASML公司一年也只能生产十几台EUV光刻机。而IMEC公司研发的这种技术,可以帮助ASML公司解决现在的技术缺陷。这是一种基于最先进激光器的新型实验室EUV光源技术,它能够为开发人员提供更高的空间和时间分辨率,如果ASML公司下一步要发展5nm节点的光刻机,技术上的障碍就会少很多。

光刻机技术从DUV技术发展到EUV技术,这必然带来很多方面的革新,光刻机需要高性能的光源,而激光器的技术水平非常关键,IMEC实验室已经研发处理当前最先进的激光器,这种设备可以发出高次谐波光源,且无需蔡司镜头即可成像,IMEC实验室这次探索意义在于为人们提供了一个新的参考——高次谐波光刻技术。

IMEC实验室是欧洲半导体领域非常有创新活力的地方,实验室设备比利时,去年,IMEC实验室还向世人亮相了他们研发的3nm工艺的芯片晶圆。这对于国产光刻机而言,压力确实很大,虽然科研水平差距很大,但并非没有赶超的可能,如果我们也有很多IMEC这样研发实验室,中国半导体一定会笑傲全球。

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