解读新闻:国产分辨力22nm超强光刻机落地 改进后可加工10nm芯片

2019-04-04

国产高端芯片来啦

改革开放40年来,随着工业化快速推进,中国拥有了自主完备的工业体系和上中下游产业链,是全世界唯一拥有联合国产业分类中全部工业门类的国家。此基础上,中国制造业规模不断扩大,成为名副其实的世界工厂和世界制造业第一大国。2018年11月29日,中国研发再次取得重大突破,又一制造行业走在了世界领先。

据新华社成都消息,国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨力达到22纳米,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10纳米级别的芯片。

据项目副总设计师胡松介绍,中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备,打破了传统路线格局,形成一条全新的纳米光学光刻技术路线,具有完全自主知识产权,为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性领域的跨越式发展提供了制造工具。

结构复杂的光刻机

根据这条新闻给出的信息我们可以有以下解读:

一、 新闻中强调国产超分辨光刻机能做到与其它国家生产的光刻机所使用的光刻路径不同,说明国内项目组突破了生产光刻机所需要的高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制等关键技术,还有结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺。

我国不仅仅有了独特的光刻技术,还培养出一支超分辨光刻技术和装备研发团队。相信通过这一团队的不断推进,会让我国的光刻技术实现弯道超车。

二、“结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10纳米级别的芯片。” 今年,中芯国际斥资1.2亿美元购买了一台EUV极紫外光刻机,目的是未来可以生产7nm工艺芯片。与此同时,长江存储同样从荷兰ASML(阿斯麦)购买了一台机器,唯一不同是的是193nm沉浸式,能用于生产20-14nm工艺的3D NAND闪存晶圆,售价7200万美元一台。这些动辄几千万上亿美元的数字说明了什么?这说明了国产光刻机未来市场前景十分广阔!都是钱呐!

三、重要的是,我国研发的光刻技术,完全是走的新的技术路线,绕过了国外高分辨光刻装备技术知识产权壁垒,实现科技创新,另辟蹊径制造出世界上首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备。从此,我国光刻技术不再受制于人。

中国芯片终会发亮

最后,祝贺我国自主研发的高端光刻机的成功,在此向中国全体科研者们致敬。希望我们的超分辨光刻机将助力“中国芯”跨越发展 。

这是中国进步路上的又一里程碑!厉害了,我的国!

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