给力,中国首台10纳米光刻机上线!

来源:快资讯 发布时间:2019-04-20 20:55

据快资讯11月29日消息称, 由中科院,光电技术研究所主导研发的“超分辨光刻装备项目”在四川成都通过了技术验收,该光刻设备分辨力达到22纳米,经过多重曝光技术,可实现10纳米以下制程的芯片制造。消息传出后, 有台湾网友在脸书上表示:“台湾是全球半导体制造的中心,台积电的芯片制造技术要比大陆先进,台湾如果要研发,是绝对有实力的!”

10纳米光刻机研发

该光刻机装备成本远低于荷兰的ASML,光电所的黑科技贡献巨大!我们知道欧洲荷兰的ASML公司,是世界上最先进的光刻机生产商。其最新研发的第五代光刻机,可用于实现20纳米以下制程,比如14纳米,10纳米和7纳米制程的芯片生产,在业界遥遥领先于同行。 它使用的是只有13.5纳米波长的极紫外光(EUV)。由于使用了极高分辨力的紫外光,就需要更精密灵敏的装备硬件,因此,装备成本也会大大提 高。 而中国的这台光刻机采用的365纳米波长光源,单次曝光可以达到22纳米,利用多重曝光技术即可实现10纳米以下制程芯片的制造。
光刻机的超分辨光刻镜头由于它使用的波长更长,是普通的紫外线光,装备的制造成本也相应降低。这意味着它会在全球市场上,具有更强的竞争力。我国的验收专家认为,此次的研发项目打破了传统光学光刻分辨力受限于光源波长限制的格局,从原理上突破分辨力衍射的极限,绕过了国外的高分辨光刻技术的知识产权壁垒,为我国在光刻机技术领域探索出了一条新道路。而作为光刻机最核心技术的提供者,中国光电技术研究所自然功不可没!

台网友称:台湾是全球先进的半导体制造中心,我们也能造出光刻机。大陆的光刻机装备宣布获得成功后,有台湾网友在脸书上评论称:“台湾一直以来都是全球领先的半导体制造中心,而且 台积电的芯片制造技术领先于大陆,台湾对于芯片制造的了解更强于大陆。所以台湾要决心制造光刻机,是绝对有技术实力的。”无可否认,台湾是最先从事半导体制造行业的地区,大陆是后发追赶者。然而,经过短短十多年的发展,大陆已经在半导体芯片,屏幕,储存等等领域呈现出反超台湾的局面,台湾人的自我封闭和夜郎自大,让台湾的半导体科技,严重落后于同时起步的日韩。
荷兰ASML公司生产的光刻机台湾能拿出台面的科技企业只有台积电,但台积电所谓的芯片先进制程,只是依赖于荷兰ASML公司光刻技术的进步。而大陆直接从光刻机装备入手,不仅能解决芯片制造对外依赖的问题,还能在先进芯片制程技术上与荷兰ASML公司一较高低。这是台积电无法做到的。我国该光刻机项目的突破,让光刻机装备的白菜价成为可能,台积电未来也只能采购大陆的光刻机(台积电已有采购大陆制造的蚀刻机),它迟早会知道,一个企业如果没有掌握核心的装备技术,它的好景也不会太长。

扫描二维码分享到微信

在线咨询
联系电话

13679048327