9纳米光刻机问世,中国冲破西方技术束缚!

来源:手机网易 发布时间:2019-04-22 16:01

中国9纳米光刻机成功问世!不走寻常路,打破西方技术封锁

光刻机,也称为光刻曝光系统,是人类文明的主要技术之一,其主要目标是制造芯片。到目前为止,任何优质芯片必须具有非常重要的光刻机。这是可以做到的,我们必须承认,这样的发达国家美国在这方面已经做得很好了,中国在这一领域始终受制于他人。西方等发达国家形成的技术壁垒完全阻碍了科学技术领域的研究,这个定制也使得中国在芯片领域没有太大的发展。因此,很久以前,中国有大量投资开发自己的芯片制造机器,即光刻机。

 

光刻机性能指数可以从许多方面,如支撑基片尺寸范围、分辨率、精度的对准和曝光模式进行评估。近日,据来自媒体报道,中国武汉光电中心甘棕松团队是完全自身发展的成功执行线段9纳米的光刻学习,你可以说它是一种非常规的方式,这打破了西方国家的技术壁垒。作为芯片制造领域的关键器件,最好的光刻机技术一直掌握在西方发达国家手中。最重要的是,这些设备都很难买到。因为所有的西方国家知道,一旦中国支配这种类型的光刻机不可避免地会大力进行在芯片领域的发展,因此,威胁发达国家市场在芯片领域长期存在。

 

在光技术制造的专家小组称高科技制造业的传统方式是完全无法实现光刻机的精度高,所以它只能做通过其他方法的光刻机来属于我们中国,但离工业生产有一段时间。但这肯定是一个良好的开端,这也为西方国家敲响了警钟,简单的技术封锁无法阻止中国的发展。

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