国产光刻机对比荷兰ASML

来源:快资讯 发布时间:2019-05-4 20:12

发展国产芯片是14亿中国老百姓的梦想,在即将过去的2018年,回首国产芯片发展情况,我们欣喜地看到很多重要进步,在很多领域取得了技术突破,实现自主创新“中国芯”的梦想正在一步步地照进现实。比如,国产光刻机与荷兰ASML之间的技术差距正在快速缩小,国产光刻机的发展速度令人点赞。

 

国产光刻机与荷兰ASML公司的技术差距是怎样的呢?打个比方,在10年前,国产光刻机的技术水平就像是学了一些基本算术的“低年级小学生”;而同时期的荷兰ASML就像是一个学习优秀的“大一新生”、日本尼康公司则像一个老资格的“优秀本科毕业生”。

为什么这么说呢?要知道,我国对光刻机的研发起步是2002年成立了上微电子(SEEE),比人家晚了20多年。而那个时候,“大一新生”荷兰ASML还在结伴台积电,苦练EUV光刻机技术,而“优秀本科毕业生”尼康则是当前光刻机领域的霸主,在技术实力、市场份额和企业规模上都碾压其他厂商,这就是十年前的全球光科技格局。

 

那么,现在那些厂商混得如何?昔日的“大一新生”荷兰ASML通过刻苦研发EUV光刻机技术取代日本尼康成为“新霸主”,而且技术实力刷到了“研究生”,尼康已经没有重返宝座的可能。而那个“低年级小学生”的国产光刻机厂商SMEE已经刷到了“大一新生”的水平。也就说,国产光刻机与荷兰ASML厂商的差距就在于“本科层次”而已。

 

那么,国产厂商跟尼康公司呢?坦率地说,技术差别已经不太大,因为尼康这么多年一直在吃老本,而国产光刻机厂商直接把目光瞄准EUV光刻机领域,如果我们国产光刻机这个“大一新生”在下几年的功夫,超越荷兰ASML这个“研究生”也是有可能的,虽然中这个赶超的学习压力非常大。


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