光刻机的主要性能指标了解一下

来源:成都兴林真空设备公司 发布时间:2019-05-8 20:40

光刻机的主要性能指标有:
1、支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
2、分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。
3、光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。
4、对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。
5、曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。
6、曝光光源波长为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等。


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