关于光刻机沉浸式和紫外的两个疑问解答

来源:360问答 发布时间:2019-05-30 17:40

1、什么是沉浸式光刻机?
在传统的光刻技术中,其镜头与光刻胶之间的介质是空气,而所谓浸入式技术是将空气介质换成液体。实际上,浸入式技术利用光通过液体介质后光源波长缩短来提高分辨率,其缩短的倍率即为液体介质的折射率。例如,在193nm光刻机中,在光源与硅片(光刻胶)之间加入水作为介质,而水的折射率约为1.4,则波长可缩短为193/1.4=132nm。
如果放的液体不是水,或者是其它液体,但折射率比1.4高时,那实际分辨率可以非常方便地再次提高,这也是浸入式光刻技术能很快普及的原因。

2、紫外光刻机是在什么条件操作?
随着电子业的飞速发展,对作为电子元器件基础的印制板的需求量及其加工精度的要求越来越高。紫外线光刻机是印制板制造工艺中的重要设备。传统光刻机的玻璃-迈拉晒架在生产过程中需要人工赶气,迈拉膜需要经常更换。由于冷却系统过于臃肿,使得其生产成本高、效率低,已不能满足PC B 生产的需要。在实验基础上设计了双玻璃晒架光刻机,改进了其主要组成部分,包括晒架系统、光路系统、冷却系统以及电气和控制系统的整体设计。
在计算机的控制下,利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光,受电子束辐照后的光刻胶,其物理化学性质发生变化,在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域,从而在抗蚀剂上形成精细图形。


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