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C-43型(4英寸)高精度单面光刻机

高精度单面光刻机

C-43型(4英寸)高精度单面光刻机实景图

主要用途

     主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。

工作方式

本机为一次性光刻曝光

主要技术指标:

1、配置两件承片台。承片台具体尺寸可根据用户需求制造

2、曝光头采用高均匀性多点光源.蝇眼(LED)曝光头

*出射光斑≤118mm;350W(高压直流汞灯

*光的不均匀性在φ100mm范围内≤±3%

*加365滤光片,***小曝光分辩率为1.0μm(在真空密着条件下

*实现真空密着条件下曝光

*光的强度可通过可变光栏大小进行调节曝光时间通过0.1~999.9秒时间继电器设定

*汞灯位置调节可通过精密的xyz调节装置调节调节量为x±5毫米、y±5毫米、z±5毫米

*具有风扇冷却装置

3、分辨率≥1μm

4、具备真空吸片功能

5、具有真空密着和反吹气的功能通过调节密着真空的大小可以实现硬接触曝光密着真空≤-0.05 Mpa)、软接触曝光(密着真空在-0.05Mpa~-0.02Mpa之间)和微力接触曝光密着真空≥-0.02Mpa)

主要配置:

*蝇眼曝光头:1台曝光类型一次性曝光

*曝光面积:≥φ100mm

*曝光不均匀性:≤±3%

*曝光强度:≥5mw

*曝光分辨率:≤1μm

*曝光模式单面曝光

*掩膜尺寸:3英寸、4英寸、5英寸

*基片尺寸:φ2″φ3″φ4″

*基片厚度:≤5 mm

*曝光灯功率:350W

*曝光定时:0~999.9秒可调

*电源单相AC 220V 50Hz功耗≤1kW

*洁净压缩空气压力:≥0.4Mpa

*真空度:-0.07Mpa~-0.09Mpa

*尺寸:700×650×1200 (L×W×H)mm

*重量:~110kg

 

 

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